半導體工藝化學實驗報告

在我們平凡的日常裏，報告的適用範圍越來越廣泛，報告包含標題、正文、結尾等。其實寫報告並沒有想象中那麼難，以下是小編幫大家整理的半導體工藝化學實驗報告，僅供參考，希望能夠幫助到大家。

實驗名稱：硅片的清洗

實驗目的：1.熟悉清洗設備

2.掌握清洗流程以及清洗前預準備

實驗設備：1.半導體兆聲清洗機（SFQ-1006T）

-1；SC-2

實驗背景及原理：

清洗的目的在於清除表面污染雜質，包括有機物和無機物。這些雜質有的以原子狀態或離子狀態，有的以薄膜形式或顆粒形式存在於硅片表面。有機污染包括光刻膠、有機溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維。無機污染包括重金屬金、銅、鐵、鉻等，嚴重影響少數載流子壽命和表面電導；鹼金屬如鈉等，引起嚴重漏電；顆粒污染包括硅渣、塵埃、細菌、微生物、有機膠體纖維等，會導致各種缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化學清洗兩種。

我們這裏所用的的是化學清洗。清洗對於微米及深亞微米超大規模集成電路的良率有着極大的影響。SC-1及SC-2對於清除顆粒及金屬顆粒有着顯著的.作用。

實驗步驟：

1. 清洗前準備工作：

儀器準備：

①燒杯的清洗、乾燥

②清洗機的預準備：開總閘門、開空氣壓縮機；開旋轉總電源（清洗設備照明自動開啓）； 將急停按鈕旋轉拉出，按下旁邊電源鍵；緩慢開啓超純水開關，角度小於45o；根據需要給1#、2#槽加熱，正式試驗前提前一小時加熱，加熱上限爲200o。本次實驗中選用了80℃爲反應溫度。

③SC-1及SC-2的配置：

我們配製體積比例是1:2:5，所以選取溶液體積爲160ml，對SC-1 NH4OH：H2O2：H2O=20:40:100ml，對SC-2 HCl：H2O2：H2O=20:40:100ml。

2. 清洗實際步驟：

① 1#號槽中放入裝入1號液的燒杯，待溫度與槽中一樣後，放入硅片，加熱10min,然後超純水清洗。

② 2#號槽中放入裝入2號液的燒杯，待溫度與槽中一樣後，放入硅片，加熱10min,然後超純水清洗。

③ 兆聲清洗10分鐘，去除顆粒

④ 利用相似相溶原理，使用乙醇去除有機物，然後超純水清洗並吹乾。

實驗結果：

利用顯微鏡觀察清洗前後硅片圖像表面

清洗前硅片照片

清洗後的硅片照片

實驗總結：

清洗過後明顯地發現硅片表面不像原來那樣油膩，小顆粒明顯減少。說明我們此次使用實驗方法是正確的，實驗結果較爲成功。